纽瑞德

NEWS CENTER

新闻中心

Check category
/
/
/
制备氦气的方法以及使用上的注意事项

制备氦气的方法以及使用上的注意事项

  • Categories:产品知识
  • Author:
  • Origin:
  • Time of issue:2023-10-19 10:23
  • Views:

(Summary description)氦气的制备方法与注意事项包括:冷凝法、空气分离法、氢液化法和高纯氦生产工艺。其中,冷凝法从天然气中提取氦气,空气分离法从空气装置中提取氦氖混合物,氢液化法工业中提取氦气。

制备氦气的方法以及使用上的注意事项

(Summary description)氦气的制备方法与注意事项包括:冷凝法、空气分离法、氢液化法和高纯氦生产工艺。其中,冷凝法从天然气中提取氦气,空气分离法从空气装置中提取氦氖混合物,氢液化法工业中提取氦气。

  • Categories:产品知识
  • Author:
  • Origin:
  • Time of issue:2023-10-19 10:23
  • Views:
Information

制备氦气的方法以及使用上的注意事项

高纯氦气(1)

纯氦、高纯氦和超纯氦的执行标准为GB/T4844-2011。
1、冷凝法是一种工业上用来从天然气中提取氦气的方法。这种工艺包括天然气的预处理和净化、对粗氦进行加工以及对氦气进行精练等步骤,最终可以生产出99.99%纯度的氦气。
天然气经过净化后,会产生粗氦。然后粗氦经过精制,最终得到氦气。
2、空气分离法是一种常用的方法,通过冷凝分离的方式从空气装置中提取原始的氦氖混合物,然后通过处理得到纯氦氖混合物。经过分离和提纯的过程,可以获得含量为9.99%的纯氦。
气体——气体分离——提炼粗氦和氦气——进一步纯化,得到纯氦和氖气——再进行分离——最终获得纯氦气
3、氢液化法是工业中用来提取氦气的一种方法。该工艺首先通过低温吸附去除氮气,然后进行精馏提取得到粗氦气。接下来,进行氧气催化脱水和氦气净化,以达到99.99%的纯度。
气体的原料经过除去氮气、精馏、除去氢气和纯化后,可得到纯净的氦气。
4、高纯氦的生产工艺是通过使用99.99%的纯氦与活性炭进行吸附处理,然后进一步提纯,最终生产出99.999%的高纯氦。

纽瑞德气体专业提醒小伙伴,在使用氦气时,必须按照先进先出的规则进行操作。
移动集装箱时必须使用适当的手推车。不能拉动、滚动或推动气缸。不要试图通过握住气缸盖来提起它,要确保气瓶在整个使用过程中保持稳定。为了安全释放气瓶中的气体,应该使用减压阀或独立控制阀,并使用单向阀防止回流。不要加热气缸以增加压力和释放气体。
如果用户发现操作气瓶阀有困难,必须立即停止使用。使用活动扳手来打开有盖或生锈的气门室盖。不要将工具(例如扳手、螺丝刀、撬棍等)放入阀盖中,否则会损坏阀门并导致气体泄漏。氦气与所有常见材料相容,所以管道和设备的设计要符合压力要求。氦气本身是无毒的,但当替代空气中的氧气时,可能会导致窒息。

推荐新闻

RECOMMEND NEWS

2026
06-29
小黑点

高纯氘气:光刻心脏的“黄金血液”,开启半导体与核聚变新时代

纽瑞德气体专业供应5N高纯氘气(D₂),深度解析其在半导体光刻、DUV光源、核聚变及光纤制造中的核心应用。作为重氢同位素气体专家,我们提供超高纯度保障与合规包装,助力芯片良率提升与高端制造突破,是您信赖的特种气体战略伙伴。
查看详情
2026
06-24
小黑点

高纯三氟化氮(NF₃):电子工业的“隐形雕刻师”

纽瑞德气体专业供应高纯三氟化氮(NF₃),纯度达99.999%(5N)。作为半导体与液晶面板制造的关键电子级特种气体,产品广泛应用于CVD腔体干式清洗与等离子体刻蚀工艺。严格品控确保极低杂质,助力提升芯片良率。提供全生命周期安全技术支持,国产化稳定供应。
查看详情
2026
06-22
小黑点

乙硅烷(Si₂H₆):超越硅烷的纳米级关键特气,新一代半导体与显示技术隐形推手

乙硅烷(Si₂H₆)是超越传统硅烷的新一代半导体关键特气。本文深度解析其在低温沉积、ALD原子层沉积及高深宽比填充中的核心优势,展现纽瑞德气体在电子级乙硅烷供应、纯度保障与安全工程方案上的专业实力,助力3DNAND与先进制程工艺突破。
查看详情
2026
06-17
小黑点

高纯甲烷:解码新能源与精密电子时代的“碳”基核心特气

纽瑞德气体专业提供5N级高纯甲烷,纯度≥99.999%。深度解析高纯甲烷在半导体碳掺杂、LED外延、标准气体及航天推进剂领域的核心应用。严格品控,致力于为客户提供纳米级精度的电子级甲烷与特种气体解决方案。
查看详情
2026
06-15
小黑点

高纯一氧化碳(CO):化工合成的“碳骨架”与特种气体的核心力量

纽瑞德气体专业解读高纯一氧化碳(3N-5N)的物化特性与核心应用。深度剖析CO在羰基合成、电子半导体及新材料领域的价值,详解金属羰基物杂质控制与高洁净包装工艺。助力化工客户保障催化剂寿命,提供安全可靠的供应方案。
查看详情
2026
06-10
小黑点

锗烷:半导体先进制程的核心“锗”源与安全应用指南

锗烷是半导体硅锗外延与先进制程的核心前驱体。纽瑞德气体提供5N级高纯锗烷及定制混配气,具备专业的安全供应体系。了解锗烷的物化特性、CVD应用及全生命周期管控方案,请联系技术团队获取专属参数与支持。
查看详情

联系我们

CONTACT US

电话

电话:400-627-7838

电话

地址:湖北省武汉市洪山区松竹路万达环球国际中心3号楼1401室

工厂地址:湖北省孝感市云梦县隔蒲潭镇云应路999号

电话

邮箱:2850590614@QQ.com

电话

传真:027-82629459

纽瑞德