四氟化碳的应用领域及使用注意事项

四氟化碳是微电子工业中应用最广泛的等离子烛刻气体，其高纯气与四氟化碳高纯度和高纯度氧混合。

1. 可广泛应用于烛刻硅、二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃和钨膜材料。对于硅和二氧化硅系统，通过调整两种气体的比例，可以获得45：1选择性，这对于在二氧化硅薄膜上刻蚀多晶硅格栅十分有用。

2. 它还广泛应用于电子设备表面清洁、太阳能电池生产、激光技术、气相绝缘、低温制冷、泄漏检测剂、宇宙火箭控制姿势、印刷电路生产中的去污剂等。

3. CF4也可用于金属冶炼和塑料工业，因为它具有很强的化学稳定性。

4. 四氟化碳具有良好的溶解氧，因此被科学家用于超深度潜水试验，而不是普通的压缩空气。如今，它已经在275米到366米的深度内成功，老鼠仍然可以安全地摆脱危险。

储存四氟化碳
1. 按照国家质量技术监督局《气瓶安全监督条例》的规定，对气瓶进行使用和检验。
2. 瓶子不能靠近火源，不能暴露在阳光下，与明火的距离一般不小于10米，瓶子不能碰撞。
3. 瓶子严禁沾油。
4. 气瓶内的气体不能全部耗尽，应留下不小于0.04MPa的剩余压力。

四氟化碳钢瓶包装在钢质无缝气瓶中，产品纯度为99.99%。多年来，武汉纽瑞德气体公司一直专门供应四氟化碳。纽瑞德是购买四氟化碳的首选。